Công nghệ HPBC 2.0 mang đến hiệu suất chuyển đổi cao đạt 24.8% Sử dụng tấm wafer silicon TaiRay loại N cao cấp, độ tin khiết cao, mang đến hiệu suất cao hơn và cải thiện độ bền Cấu trúc 0BB và thanh cái mặt sau, cho phép tăng công suất lên 5W, cải thiện độ thẩm mỹ và mở ra tương lai mới cho công nghệ tấm pin 2 mặt Chống bóng râm, ngăn ngừa quá nhiệt cục bộ, chống lão hoá do nhiệt độ cao, tia UV, cát bay, tuyết,… Tấm nền wafer silicon TaiRay cho độ bền cao hơn, có khả năng chống ứng suất và ngăn ngừa vết nứt nhỏ ở cấp độ hệ thống vượt trội. Hiệu suất duy trì trên 30 năm
Khung nhôm chống oxy hóa.
Tương thích inverter hybrid.
Hiệu suất cao trong điều kiện nắng yếu.